竞技宝测速站：显现配备之殇—— OLED蒸渡端设备深度研讨（下）

  编者按：本文作者黄哲新，首发于梧桐树本钱PTCG微信号，集微网经授权发布。

  在AMOLED制程工艺中，有机半导体资料镀膜是最要害的制程之一。现在，仅有量产的有机发光二极管（OLED）成膜技能是真空蒸镀与金属掩模板（Metal Mask）相结合的办法。

  与蒸镀体系协作的掩膜版（Mask）是决议蒸镀体系功用的要害。OLED蒸镀用掩模板（Mask）首要分为开口掩模板（Open Mask）和精密金属掩膜版（Fine Metal Mask）。开口掩模板（Open Mask）用于构成通用层（Common layer）的蒸镀腔体；精密金属掩膜版（FMM）的首要作用是在OLED出产进程中堆积RGB有机物质并构成像素，精确和精密地堆积有机物质，前进分辨率和良率。FMM的开孔直接决议OLED显现屏的像素凹凸，开孔越小，像素越高。

  从FMM开孔形状来看，依据FMM的开孔形状的不同，FMM 能够进一步细分为插槽型和狭缝型，狭缝型FMM工艺简略做到小开口尺度，可是其受其物理强度极低的影响，其屏幕尺度受到限制，不能制作成大尺度屏幕，一起将导致掩膜版的运用寿命大大缩短，出产本钱增加。

  出产FMM的办法首要有三种:蚀刻、电铸和多重资料(金属+树脂资料)复合。

  蚀刻法：首要是经过蚀刻Invar Sheet的办法制作。现阶段首要的OLED面板FMM供货商，DNP（大日本印刷）、凸版印刷（Toppan Printing）和达运等均选用蚀刻技能。该办法制作出的FMM在现阶段最薄能够做到20μm左右并到达WQHD（分辨率2560*1440的高清屏幕）等级分辨率。流程如下：

  电铸法：经过该办法制作出的FMM厚度很薄。选用该办法的厂家首要有日本Athene与Hitachi Maxell。这两家公司现已将板厚操控到约5μm，并正在研制WQHD（分辨率2560*1440）分辨率等级的FMM产品。流程如下：

  经过在电镀溶液中进行电镀作业，在阴极衬底上堆积Invar资料，构成图形；

  多重资料复合法——首要选用树脂和金属资料混合以制作FMM以应对热膨胀，V-Technology现在具有做到厚度为5μm，且成膜精度方位为2μm FMM的才能(向1μm开展)。

  尽管Hitachi Maxell与V-Technology别离选用电铸和多重资料复合办法对QHD（分辨率960*540）分辨率以上的FMM有进行研讨,可是其产品还未进入量产和厂商验证阶段。

  蒸镀进程中有机资料开释热量，使FMM和玻璃温度升高。FMM制作资料一般选用金属资料。为下降蒸镀进程中FMM的热膨胀效应，frame，cover，support，align stick，fine stick倾向于选用热膨胀系数较小的资料。比方常用的Invar36，称为不变钢。

  Frame：一般厚度及尺度依据蒸镀机的标准要求制作，遍及厚度为30mm。原料选用Invar36。因为涉及到张网时焊接原因，Frame加工对平坦度要求比较高，一般要到达50um以内。

  Cover，Support：一般选用30um~100um厚度的Invar36或许SUS304制作。假如选用Invar36，则是运用Invar热膨胀系数小的优势，能确保蒸镀进程中MASK形变小。假如选用SUS304，则是运用SUS原料不导磁的特色，在蒸镀进程中削减FMM wrinkle 的发生。

  Align stick：供给张网制作或许是蒸镀机对位的基准，对原料没有过多的要求。

  Fine stick：Fine stick是FMM中最杂乱，也是技能要求最高的部分。现在比较干流的有四大制作工艺，即蚀刻工艺、电铸工艺、蚀刻+激光复合资料、混合工艺（电铸+电铸或电铸+蚀刻），其间电铸+蚀刻工艺无论是可行性仍是产业化都具有共同的优越性，未来最有期望在这个工艺上打破高PPI难题。

  蒸镀进程中有机资料开释热量，使FMM和玻璃温度升高。FMM热膨胀后变长，与玻璃之间构成缝隙，不利于蒸镀资料的规矩堆积。因而要给FMM必定的预张力。与此对应，fine stick 在制作时，要规划必定的缩短率η。

  界说η=（规划尺度-实践尺度）/ 规划尺度*100%，假定FMM的热膨胀系数为α，关于长度为 l 的FMM，在温度升高△T时，即规划缩短率有必要满意η≥α△T 。

  按Invar36均匀热膨胀系数1.6×10-6算，可得出蒸镀不同温升的fine stick最小缩短率，如下表所示。

  现在顾客越来越重视屏幕的PPI（像素密度），尤其是VR的问世更是对PPI（像素密度）提出了苛刻的要求，意味着FMM有必要打破高分辨率难题。可是以DNP（大日本印刷）为代表的的蚀刻工艺，自身就存在不行逾越的宽厚比的问题，增加精密的开孔意味着更薄的资料厚度，可是资料厚度的下降会导致各式各样的问题，例如加工难度、资料自身均匀性的问题。蚀刻工艺理论上的最小开口为25μm，与VR显现屏最低物理分辨率的要求依然存在间隔。

  可是从现阶段的FMM构成的产业链来看，上游资料INVAR（10~20μm厚）只要日立金属能够出产，而中游首要是日韩和我国台湾地区，我国大陆并没有能够量产FMM的公司，可是我国大陆却是需求量最大的商场。

  在2018年从前，因为日立跟DNP（大日本印刷）是绑缚协作，而DNP（大日本印刷）与三星是签署了独占性合约(供给10~20μm厚的FMM)。到了2018年三星跟DNP（大日本印刷）独占合约到期，这也才有了DNP（大日本印刷）现已与BOE（京东方）达成协议， DNP（大日本印刷）会逐渐向BOE（京东方） 供给WQHD 级手机用的FMM(约30μm厚)。

  DNP（大日本印刷）与TOPPAN（日本凸版印刷）有限的产能无法满意很多面板制作商的需求，巨大的商场促进上游资料企业活跃参与。2018年联创光电出资10亿元的FMM出产项目落户南昌市赣江新区，投产后有望打破FMM依靠进口的局势，推进国内OLED显现技能的开展。

  高端平面金属丝网，运用于高精密丝网印刷，原料为镍、镍合金，尺度精度±0.002mm，方位精度±0.020mm，厚度0.010mm~0.050mm，最大尺度500mm×700mm。

  电铸3D模板：用于SMT印刷，原料为Ni、Ni Alloy，尺度精度±0.005mm，方位精度±0.030mm，最大阶梯度90°，最大阶梯高度3.000mm。

  VCM（音圈马达/音圈电机）弹片：用于完结摄像头的主动对焦及光学变焦，为现在绝大多数手机所运用。

  尺度公役：VCM弹片弹丝的尺度公役越小，国内对弹丝的尺度公役要求操控在±0.01mm

  可穿戴电子设备柔性导电器材：柔性导电器材，完结了无需充电，无需线缆或部件即可开端输入，完结电能和数据的双向传输，可大规划运用在智能穿戴终端产品中

  堆积掩模是在TFT基板上构成有机资料的掩模，而且是OLED制作的根本组件之一。因而，估计从中长时刻来看，OLED堆积掩模的商场将会增加。自2012年以来，公司一向在进行专有堆积掩模（精密混合掩模，FHM）的研制，然后咱们于2017年12月在山形县米泽市成立了VET，以制作和开发FHM。本钱出资约50亿日元，并方案在山形县和米泽市的支撑下于2019年开端量产。

  FHM（精密混合面膜）是适用于OLED制作的下一代堆积掩模，既轻盈又薄，一起坚持运用金属和树脂的混合结构的强度。FHM在TFT上精确构成OLED资料的堆积。

  2019年8月，咱们收买了NSS作为全资子公司，该公司在半导体晶圆查看和无掩模曝光方面具有杰出的技能和成果，以促进咱们与半导体相关的事务的增加。

  1）无掩模光刻技能。该体系（DL-1000）运用远心光学照明体系和数字微镜设备（DMD）来依据需求立即在PC屏幕上规划的图画数据的光刻胶上曝光，而无需运用光掩膜。与独自的光路调查体系比较，这能够轻松，精确地进行堆叠对准。DL-1000是DMD作为高分辨率图形发生器，具有超快的反射镜切换速度，能够轻松，快速地对微结构进行图形化。DL-1000配有CCD摄像机，能够与曝光光路同轴地调查基材。与独自的光路调查体系比较更精确。

  智能实时主动对焦功用乃至能够在薄通明基板，有图画的基板和翘曲的基板上进行图画化；

  经过同轴调查体系TTL（Through The Lens）一起调查外表图画和曝光图画，并运用咱们自己的图画处理技能进行高精度掩盖；

  2）半导体Mask Writer。Mask Writer具有共同的“免耗费”规划，十分合适先进技能节点中的第二层PSM光掩模图画构成以及移动，物联网（IoT）或轿车运用中的二进制光掩模图画构成，能够大幅度下降出产本钱。

  解析度原始开发的无畸变光学器材使咱们的Mask Writer能够履行500nm或更高的光学分辨率，一起满意高速和高精度要求；

  共同的“耗材免费”规划运用户能够大大下降出产本钱。无需替换光源，镜头，反光镜等，这不只节省了零件费，而且还节省了许多保护（服务）费，而且因为停机时刻短，因而多年来仍能坚持较高的运转时刻；

  此外，咱们的集团公司OHT正在促进用于MRAM的主动晶圆检测设备和探测器的事务。

  跟着5G的呈现和物联网的开展，FPD（平板显现器）有望在未来开展为各种类型的面板。公司供给各种制作设备，将最好的光机电一体化，以满意客户的各种需求。

  1）大型玻璃基板曝光设备“ RZ”。“ RZ”是构成五颜六色滤光片（CF）工艺中心的曝光设备，在FPD（平板显现器）出产中很重要。作为兼容大屏幕FPD的近接型曝光设备，它在全球占有最大的商场比例。

  2）卷对卷曝光设备“ DZ”。DZ“是为曝光而优化的接触曝光设备，例如用于OLED的堆积掩模。它支撑笔直传送和水平传送的曝光，而且还有单晶片类型的类型。咱们用咱们的设备很好地满意您的需求。

  3）照相对准胶片曝光设备“ AEGIS”。取向膜是使显现器中的液晶分子单向取向的功用性聚合物膜。“ AEGIS”运用特别的紫外线和光掩模以非接触办法构成取向膜。它对应于G10.5尺度的玻璃基板。

  1）用于PKG凸点构成的金属掩膜。这使得能够削减焊料量的改变，这是近年来在敏捷多样化的移动IT设备上高密度设备的各种电子组件的设备问题。公司改进了增加办法中存在的厚度改变，并完结了均匀的焊料量。此外，经过减小间隔，现已完结了超硬金属掩模以处理刚性问题。

  2）晶圆凸点印刷用金属掩模（SUPER NOVA）。跟着各范畴技能的开展，对精密加工的需求不断增加，开发了超细精密电铸技能“ SUPER NOVA”。能够一次履行数十μm的开孔，数十μm的开孔间隔以及数百万个孔的接连钻孔，然后能够完结精确度惊人的标准。现在，该技能在各个范畴引起重视，并被用于比如半导体，平板显现器和精密筛子的范畴。特别是在晶片凸点印刷中，能够印刷多达12英寸的晶片。

  3）接触屏点间隔印刷用金属掩膜。跟着显现器商场的敏捷开展，对接触面板作为输入/输出设备的需求正在增加。

  运用咱们原始的办法翻开R面膜。经过选用这种结构办法，消除了被认为是缺点的掩模开口缺点和针孔的问题，而且能够处理用一般的附加掩模无法完结的窄间隔图画。外表滑润度和开口壁粗糙度均在0.1μm以下。公司能够处理的最大尺度为700mm x 550mm，这是一种大型面罩，在多面加工中表现出色。

  4）用于SMT设备的附加金属掩模。锡膏助焊剂在开口壁上的冲突应力大大下降，然后能够完结高质量的锡膏印刷，例如0402芯片。

  有机EL显现器像素堆积掩模。鄙人一代移动显现器中起主导作用的有机EL显现器。经过运用Athene共同的电铸办法将开口制成R形，能够在图画区域上均匀堆积像素。别的，经过消除抗蚀剂残留物的技能能够构成没有缺点的开口，而且经过原始的间隔调理技能和结构接合技能完结了高间隔精度和开口精度。

  公司的夹具可有用掩盖具有杂乱配备的产品，Athene的方针是省时地开发吃力的多色涂层工艺，公司的技能使其夹具赢得了业界最大的比例。

  CD-ROM，DVD，CD-DA和Blu-ray。在从规划到分销的一切进程中，Athene的技能将为客户供给立异，优质的产品和服务，以满意客户的需求。

  半导体封装电路印刷用金属掩膜因为结构问题，均匀的印刷和膜厚操控从前是一个巨大的应战。可是，Athene运用共同的立异技能开发了无缝的“数字屏幕”。它的平坦外表是经过一起电铸网和高精度电铸金属掩膜的全体模制而成的。尽管对电路密度更高的半导体封装的需求不断增加，但Athene仍能够进行无任何不规矩印刷的打印。

  可是从现阶段的FMM构成的产业链来看，上游资料INVAR（10~20μm厚）只要日立金属能够出产，而中游首要是日韩和我国台湾地区，我国大陆并没有能够量产FMM的公司，可是我国大陆却是需求量最大的商场。

  ① 日本方面：在2018年从前，因为日立跟DNP（大日本印刷）是绑缚协作，而DNP（大日本印刷）与三星是签署了独占性合约(供给10~20μm厚的FMM)。到了2018年三星跟DNP（大日本印刷）独占合约到期，这也才有了DNP（大日本印刷）现已与BOE（京东方）达成协议， DNP（大日本印刷）会逐渐向BOE（京东方） 供给WQHD 级手机用的FMM(约30μm厚)。

  干流厂商DNP（大日本印刷）与TOPPAN（日本凸版印刷）有限的产能无法满意很多面板制作商的需求，巨大的商场促进上游资料企业活跃参与。

  日本半导体相关制作技能研制商Athene已研制出一套可制作出高精密OLED面板的新技能。报导指出，Athene方案投下数亿日元于神奈川县藤泽市兴修产线年将上述光罩产品卖给OLED面板厂，第一个年度的营收方针为1亿日元，但技能还未量产。

  ② 韩国方面：韩国Poongwon Precision声称能够做厚度0.030mm，但资料也是由日立金属供给；别的，e-cony、sewoo、LG也显现有相关技能。

  2018年，上市公司联创光电出资10亿元的FMM出产项目落户南昌市赣江新区；

  大富科技旗下子公司大富机电先期将在安徽大富重工产业园，出资9000万元，建造3条高精度金属掩模板出产线；

  昆山允升吉承当MASK国家863专项制作相关的金属掩膜版产品；但这几家现在的量产才能现在来看没有完结打破。

  现在商场上量产的AMOLED显现屏制作工艺是真空蒸镀技能，其各功用层包含HIL（空穴注入层）、HTL（空穴传输层）、EML（实践发光层、RGB等色彩）、ETL（电子传输层）、EIL（电子注入层）等都是选用真空蒸镀的办法、接连地堆积在TFT（薄膜晶体管）（薄膜晶体管）基板上。

  因为工艺参杂的需求和为了避免穿插污染，不同的功用层需求在不同的蒸镀机腔体内蒸镀，一起在蒸镀完结后经过机械手将基板在不同的腔体之间进行搬运。蒸镀腔内有蒸镀源、张网机、玻璃基板和冷却板等设备。在进行有机薄膜蒸镀时，需求先将带有TFT（薄膜晶体管）（薄膜晶体管）的基板进行回转，这以后经过张网机将Mask和基板对齐，再将蒸镀源翻开对基板进行蒸镀。

  OLED真空蒸镀机是一条设备连线，长约一百米，是整个OLED出产进程的中心设备。蒸镀是OLED制作工艺的要害，经过真空蒸镀机能够将OLED有机发光资料精准、均匀、可控地蒸镀到玻璃基板上。真空蒸镀进程便是便是经过电流加热，电子束炮击加热和激光加热等办法，将待成膜的物质置于真空中进行蒸腾或前进，使之在基片外表分出的进程。

  OLED蒸镀分为有机资料蒸镀和无机蒸镀。有机资料蒸镀：在高真空腔室中设有多个放置有机资料的蒸腾源，加热蒸腾源蒸镀有机资料，并运用石英晶体振荡器来操控膜厚。基板放置在样品托架上，其下面放置的金属掩膜板操控蒸镀图画。

  无机蒸镀：在有机资料薄膜蒸镀完结后进行蒸镀，用于金属电极蒸镀的源一般选用钼、钽和钨等资料制作，以便用于不同的金属电极蒸镀(首要是避免舟金属与蒸镀金属发生化学反应)。

  蒸镀体系结构包含：操作接口、Infeed Load/Lock传输腔体、Plasma真空腔体、有机蒸镀真空腔体、金属蒸镀真空腔体、资料蒸镀操控柜、手套箱、气体循环体系。

  操作接口操控软件的各操作接口与设备各组成部分一一对应，以操控设备的相应气阀及机动操作。

  Infeed Load/Lock传输腔体， Infeed Load/Lock传输腔体包含两个锁紧阀门、可移动的传送板、具有加热器的温度监测表、真空表、机械泵抽气阀门和N2充入阀门等。

  Plasma真空腔，Plasma真空腔体包含调理挡板（shutter）、机械泵阀门（valve）、分子泵、调查窗、Plasma电源、Ar、O2、CFX进气管道、真空度监测体系、电极板、托盘（两电极板之间）和N2充入阀门等。

  有机蒸镀腔体:有机蒸镀腔体包含传送设备、蒸镀腔体、托盘、传送箱与真空腔体之间的阀门(valve)、转盘机械手臂、大挡板（main shutter）、小挡板(source shutter)、有机资料坩锅、加热源、晶振片、厚度检测体系、机械泵、冷泵（低温泵）、修理口、调查窗、PLC电机、N2充入阀门、粗真空表、高真空表等。

  金属蒸镀炉:金属蒸镀炉包含传送设备、蒸镀腔体、托盘、传送箱与真空炉之间的阀门(valve)、转盘机械手臂﹑大挡板（main shutter）、小挡板(source shutter)、LiF坩锅、Al坩锅、加热源、主动进料系綂、晶振片、厚度检测体系、冷泵（低温泵）、修理口、调查窗、PLC电机、N2充入阀门、粗真空表、高真空表等。

  资料蒸镀操控柜:资料蒸镀操控柜包含温度操控表、厚度测量表、蒸镀金属资料的功率操控表和操作操控界面。

  手套箱:包含N2手动/主动充入阀门、手动/主动出气阀门、手套、离子消除仪、湿度监测表、O2含量监测器、循环体系接口。

  气体循环机:包含除氧/除水份体系、循环风机、再生体系、气体压力操控器和粒子过滤器。

  自在蒸腾源：其蒸腾速率不只仅取决于物质的平衡蒸汽压Pe， 还和蒸腾物质的实践分压Ph有关。

  克努森蒸腾源（Knudsen Cell）：该类型蒸腾源特色是蒸腾面积小、蒸腾速率低、蒸腾束流方向性好，且温度、蒸腾速率等能够精确操控。

  坩埚蒸腾源：该类型蒸腾速率可控性介于上面两种蒸腾源之间。一般小型实验室会选用该类型的蒸腾源。

  得利于杰出的物质束流方向性和蒸腾的可操控性，克努森蒸腾源被很多的运用的高精度的蒸镀出产中。假如为了得到更好的资料厚度和均匀性，装配了克努森蒸腾源的蒸镀设备也还能够进一步经过增大靶材-源间隔(Target Source Distance. T/S)、滚动基板和将蒸腾源和基板外表置于同一个圆周上等办法前进薄膜的堆积均匀性。

  点源：首要为单个Knudsen Cell（克努森蒸腾源）。其设备规划时， 需求在蒸镀均匀性、Source和基板间隔、off-axis location、资料运用率、堆积速率等参数之间寻觅最理想的工艺窗口。

  线源：首要为并联的Knudsen Cell（克努森蒸腾源）， 其技能特色是蒸腾源或基板在蒸镀是进行移动。与点源比较， 因为有更小的Source与基板间隔、更好的堆积均匀性和更好的资料运用率， 理论上线源有更好的堆积作用。依据加热设备Heater的方位不同， 线源又能够进一步分为Top Heater（顶部加热） 和Side Heater（侧加热）型。

  面源(Planar/Area Source)以及其延伸技能: 与点源和线源不同，该技能特色是先将OLED资料蒸腾到一个平面Substrate，这以后再将面上的OLED资料蒸腾到方针基板上。与其他蒸腾结构比较，该结构的设备规划愈加简略，且理论上其制作AMOLED器材时Dead Zone/Shadow Area（阴影区）的区域会更小。可是因为其需求先将资料蒸腾到一中介平面，所以工艺过程会愈加的杂乱。该技能暂时还未能进入产线进行运用。

  真空蒸镀法需求将有机资料蒸腾或许气化，一般分为电阻加热蒸镀法和电子束蒸镀法等。电阻加热蒸镀法是在真空蒸镀机中放入盛有有机物的坩埚，经过对其内部的电阻丝通电加热，使有机资料蒸腾或气化，然后在基板上附着并终究成膜；电子束蒸镀法是运用电子束照射下的十分强的能量，使靶材加热前进或许蒸腾，可是因为电子束能量过于强壮，适用于金属或许氧化物层的蒸镀，因而OLED器材的有机物层蒸镀简直都选用电阻加热蒸镀法。

  因为安稳量产与技能老练方面的优势，现在全球蒸镀机出产简直被Canon Tokki（TOKKI 在日本意为「特别设备」）独占，「真空蒸镀设备」相当于OLED面板产线的心脏部位。Canon Tokki蒸镀机具有极高的对位精准度,能够把OLED有机发光资料精准的蒸镀到基板上,差错操控在5微米之内。此外，Canon Tokki设备的传送体系能够确保简直没有破片，直接确保了良率，所以一向被称为是最好的设备，现在一台机器的价格约100 亿日圆（约8,500 万美元），等待时刻约需求两年，海外用户购买根本靠加价，实践价格没有过亿美元价格乃至拿不到货。该公司现在没有揭露任何出产细节和盈余数据。据两名不签字知情人士表明，该公司现在的年出产值小于10 个单位。

  Canon Tokki是日本的一家国际级企业，公司员工约350人，公司年产值高达数十亿美元，是业界公认最好的蒸镀机制作商，简直独占全球的OLED蒸镀设备。CanonTokki蒸镀机具有极高的对位精准度,能够把OLED有机发光资料精准的蒸镀到基板上,差错操控在5微米之内（1微米＝1/10000公分,相当于头发直径的1%）,独步业界。Canon Tokki本来的年产能3~4台蒸镀机,直到2017年扩大产能,年产能拉高到7台,据业界音讯，2018年Canon Tokki蒸镀机规划出货量为11台。

  日本的ULVAC（爱科华）紧追不舍，尽管与Canon Tokki这种独占巨子比较还有不小的距离，可是其也在大力研制，活跃立异，推出的新式镀膜设备一ZELDA选用线型蒸镀源技能，可将资料运用率大幅前进至20%，并可均匀地将有机发光资料镀在AMOLED面板上，前进面板厂前段制程的良率。

  韩国的SFA和SNU也不甘落下，2016年10月，韩国设备业者SFA供给昆山国显光电2台5.5代线月，S FA宣告收买SNU，两家蒸镀设备厂商的强强联合，在技能上的堆集能够发生协同效应，将有望增强在蒸镀设备制作范畴的竞赛力。别的，因为OLED屏幕在智能手机上的运用日益广泛，国际范围内的面板制作商都在加快出资OLED出产线，SFA收买SNU能够大幅度前进产能和出产大规划蒸镀设备的战略可行性。

  韩国Sunic System也是OLED蒸镀设备闻名厂商之一，曾供给华星光电研制产线蒸镀设备和供给乐金显现器(LGD)量产设备，在未来的蒸镀设备订单竞赛中，Sunic System也是一个不行小觑的对手。

  国内OLED蒸镀设备出产厂商方面，国内OLED大型出产线配备虽仍一片空白，OLED科研型蒸镀设备已达国际水平，中试型出产配备已成功研制。下流出产产商方面，京东方等传统的6代OLED出产线都需求日本的高端蒸镀机。据相关陈述，2018年6月，全球第一条类6代全柔性OLED出产线在深圳柔宇科技正式点亮投产；据称从全柔性OLED的资料，到出产工艺，出产设备器材等方面，都是柔宇研制，都具有自己的中心技能专利，而且柔宇科技出产的不是根据低温多晶硅技能道路的固定曲面柔性AMOLED，而是真实的“全柔性”OLED，可折叠且可弯曲。

  另一方面，现在OLED面板制作运用的蒸镀技能本钱昂扬，在未来真空蒸镀工艺或许将被OLED印刷技能所代替。在印刷出产OLED技能方面，三菱化学最为抢先，该出产办法的资料本钱仅为蒸镀出产OLED面板的10%。此外，印刷工艺不需求再高温真空环境下进行，关于制作工艺的要求也大幅下降，本钱也天然更低。现在我国有多个印刷式OLED产品研制中心，一个是京东方合肥基地的实验室，一个是TCL、深天马协作的广东聚华印刷式OLED研制中心，还有一个是华南理工高分子光电资料与器材研讨所。其间京东方和华星光电在印刷OLED方面都展示出了较强的实力，专利数量均超过了从前的OLED专利强者LG和默克，必定程度上反映出了我国企业研制才能的前进以及如今所在的职业位置。关于我国面板厂商而言，假如能在印刷显现技能方面抢占先机，意味着能够打破韩国在OLED范畴的独占位置，成为新技能的引领者。

  因为安稳量产与技能老练方面的优势，现在全球蒸镀机出产简直被Canon Tokki（TOKKI 在日本意为「特别设备」）独占，「真空蒸镀设备」相当于OLED面板产线的心脏部位。Canon Tokki蒸镀机具有极高的对位精准度,能够把OLED有机发光资料精准的蒸镀到基板上,差错操控在5微米之内。此外，Canon Tokki设备的传送体系能够确保简直没有破片，直接确保了良率，所以一向被称为是最好的设备，现在一台机器的价格约100 亿日圆（约8,500 万美元），等待时刻约需求两年，海外用户购买根本靠加价，实践价格没有过亿美元价格乃至拿不到货。该公司现在没有揭露任何出产细节和盈余数据。据两名不签字知情人士表明，该公司现在的年出产值小于10 个单位。

  日本的ULVAC紧追不舍，尽管与Canon Tokki这种独占巨子比较还有不小的距离，可是其也在大力研制，活跃立异，推出的新式镀膜设备一ZELDA选用线型蒸镀源技能，可将资料运用率大幅前进至20%，并可均匀地将有机发光资料镀在AMOLED面板上，前进面板厂前段制程的良率。

  韩国的SFA和SNU也不甘落下，2016年10月，韩国设备业者SFA供给昆山国显光电2台5.5代线月，S FA宣告收买SNU，两家蒸镀设备厂商的强强联合，在技能上的堆集能够发生协同效应，将有望增强在蒸镀设备制作范畴的竞赛力。别的，因为OLED屏幕在智能手机上的运用日益广泛，国际范围内的面板制作商都在加快出资OLED出产线，SFA收买SNU能够大幅度前进产能和出产大规划蒸镀设备的战略可行性。

  韩国Sunic System也是OLED蒸镀设备闻名厂商之一，曾供给华星光电研制产线蒸镀设备和供给乐金显现器(LGD)量产设备，在未来的蒸镀设备订单竞赛中，Sunic System也是一个不行小觑的对手。

  国内OLED蒸镀设备出产厂商方面，国内OLED大型出产线配备虽仍一片空白，OLED科研型蒸镀设备已达国际水平，中试型出产配备已成功研制。下流出产产商方面，京东方等传统的6代OLED出产线都需求日本的高端蒸镀机。

  在未来真空蒸镀工艺或许将被OLED印刷技能所代替。在印刷出产OLED技能方面，三菱化学和默克最为抢先，该出产办法的资料本钱仅为蒸镀出产OLED面板的10%；据访谈heios社长佐藤先生表明：印刷设备根本老练，但印刷所需资料研制仍旧滞后且进展无期，后续在该范畴能够去日本探究相关潜在代替方，未来五年印刷设备代替蒸镀设备技能可行性不大。